光學(xué)薄膜測(cè)量?jī)x采用光譜反射計(jì)技術(shù)測(cè)量薄膜反射光譜進(jìn)測(cè)量薄膜厚度和測(cè)量薄膜折射率等參數(shù)，非常適合日常已知膜系膜堆測(cè)量。這款測(cè)厚儀具有較長(zhǎng)工作距離，工作距離可調(diào)，超大樣品臺(tái)，可選光源等特點(diǎn)。
光學(xué)薄膜測(cè)量?jī)x的工作原理：
1、白光反射光譜測(cè)量方法是在一定波長(zhǎng)范圍內(nèi)，分析垂直于樣品表面的入射光和從單層或多層堆疊薄膜反射的反射光譜的分析方法。
2、由界面&表面產(chǎn)生的反射光譜被用于確定獨(dú)立和附著于基底（在透明或部分/全反射基底上）的堆疊膜層的厚度、光學(xué)常數(shù)等。
產(chǎn)品特征：
非接觸式、非破壞性的測(cè)試系統(tǒng)；
超長(zhǎng)壽命光源，更高的發(fā)光效率；
高分辨率、高靈敏度光譜儀，測(cè)量結(jié)果更準(zhǔn)確可靠；
軟件界面直觀，操作方便省時(shí)；
歷史數(shù)據(jù)存儲(chǔ)，幫助用戶更好掌握結(jié)果；
桌面式分布設(shè)計(jì)，適用場(chǎng)景豐富；
維護(hù)成本低，保養(yǎng)方便。
光學(xué)薄膜測(cè)量?jī)x的優(yōu)點(diǎn)是能夠避免前期的樣品處理，甚至是不需要樣品來(lái)進(jìn)行試樣工作。傳統(tǒng)的測(cè)厚儀，在測(cè)量物件時(shí)，需要進(jìn)行樣品的處理，使樣品與被測(cè)量物件一致，在測(cè)量時(shí)直接應(yīng)用于樣品測(cè)量。而光學(xué)測(cè)厚儀的使用是直接應(yīng)用于被測(cè)量物體。
這樣的一個(gè)過(guò)程便節(jié)省了不少的工作以及資源。利用光學(xué)膜厚測(cè)量?jī)x，它可以避免了被測(cè)量物件的損壞。
之所以普通傳統(tǒng)的測(cè)厚儀需要用到樣品來(lái)進(jìn)行試測(cè)，就是因?yàn)樵跍y(cè)量時(shí)，會(huì)對(duì)物體造成一定程度的表面損壞，為了避免物件的損壞，才會(huì)需要應(yīng)用樣品。
而光學(xué)的測(cè)厚儀，雖然直接應(yīng)用于物件表面，但其它放射出來(lái)的光卻是一樣沒(méi)有實(shí)質(zhì)的事物，在測(cè)量的時(shí)候并不會(huì)對(duì)物件造成什么樣的損傷。
歡迎來(lái)到尤尼柯（上海）儀器有限公司網(wǎng)站！
